凈化工程在建設(shè)之初對(duì)溫濕度的設(shè)計(jì)要優(yōu)先考慮好，因?yàn)楝F(xiàn)代工藝對(duì)生產(chǎn)過(guò)程當(dāng)中溫濕度的要求已經(jīng)越來(lái)越高，所以企業(yè)所建設(shè)的凈化工程必須對(duì)溫濕度一定有很好的掌控。

　　在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院螅瑢?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間不宜超過(guò)25度。

　　濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。

　　然而對(duì)于大部分凈化工程，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力(靜壓)高于外部的壓力(靜壓)。凈化工程對(duì)壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則：

　　1、潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。

　　2、相通潔凈室之間的門要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間。

　　3、凈化工程昂當(dāng)中潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄(或滲透)風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。

　　對(duì)于亂流潔凈室由于主要靠空氣的稀釋作用來(lái)減輕室內(nèi)污染的程度，所以主要用換氣次數(shù)這一概念，而不直接用速度的概念，不過(guò)凈化工程對(duì)室內(nèi)氣流速度也有如下要求：

　　1、送風(fēng)口出口氣流速度不宜太大，和單純空調(diào)房間相比，要求速度衰減更快，擴(kuò)散角度更大。

　　2、吹過(guò)水平面的氣流速度(例如側(cè)送時(shí)回流速度)不宜太大，以免吹起表面微粒重返氣流，而造成凈化工程的再污染，這一速度一般不宜大于0.2m/s。